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掩模

拼音：yǎn mó

英文解釋：

【計】 masking

相關對話：

  1. 對準,調整掩模和晶片之間的位置。
    Act of moving a mask or reticle to match up alignment marks.
  2. 用於T形柵光刻的新型移相掩模技術
    Novel PSM technology for T-shaped gate lithography
  3. 對準,調整掩模和晶片之間的位置。
    Act of moving a mask or reticle to match up alignment marks
  4. 鉻掩模的使用壽命比乳效掩模的長10~100倍.
    Chromium masks last 1o to 100 times longer than the emulsion masks.
  5. 採用移相掩模技術實現≤0.2μmi線光刻
    0.2μm or Less i-Line Lithography by Phase-Shifting-Mask Technology

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